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罐體拋光機(jī)拋光有哪幾種方法?(一)
添加時(shí)間:2017-08-03
目前常用的拋光方法有以下幾種:
1.1 罐體拋光機(jī)機(jī)械拋光
    機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面,可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔助工具,表面質(zhì)量 要求高的可采用超精研磨拋光的方法。超精研拋是采用行星式拋光機(jī),在含有磨料的研拋液中,作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。利用該技術(shù)可以達(dá)到 Ra0.008 μ m 的表面粗糙度,是各種拋光方法中最高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。
1.2 罐體拋光機(jī)化學(xué)拋光
    化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備,可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件,效率高。化學(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制?;瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù) 10 μ m 。
1.3 電解拋光
    電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,可以消除陰極反應(yīng)的影響,效果較好。電化學(xué)拋光過程分為兩步:
( 1 )宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降, Ra > 1 μ m 。
( 2 )微光平整 陽極極化,表面光亮度提高, Ra < 1 μ m 。
1.4 超聲波拋光
    將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表面磨削拋光。超聲波加工宏觀力小,不會(huì)引起工件變形,但工裝制作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結(jié)合。在溶液腐蝕、電解的基礎(chǔ)上,再施加超聲波振動(dòng)攪拌溶液,使工件表面溶解產(chǎn)物脫離,表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過程,利于表面光亮化。
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